euv光刻机极限是多少
发布网友
发布时间:2024-10-20 11:54
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热心网友
时间:2024-11-14 23:45
1. 目前,euv光刻机的极限可以达到7纳米。
2. 这是因为euv光刻机采用了极紫外光(EUV)作为曝光光源,其波长为13.5纳米,比传统的光刻机使用的深紫外光(DUV)波长更短,可以实现更高的分辨率。
3. 随着技术的不断进步和创新,euv光刻机的极限可能会进一步提高,实现更小的纳米级别的制程。这将推动半导体行业的发展,使得芯片的集成度更高,性能更强大。