工业生产中为什么要用纯水清洗材料?

发布网友 发布时间：2022-05-06 17:58

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热心网友 时间：2023-10-14 06:03

因为纯水设备能够去除自来水中的钙镁离子和盐，如果在镀膜前使用自来水冲洗的话会使加工出来的玻璃面有点状的物质（也就是自来水中的钙镁离子和盐），玻璃清洗及生产使用的是我们的RO两级超纯水设备，该产品属于技术过滤效果极高的一款产品，它处理后的水完全可以达到生产玻璃时所需用水，而且该设备稳定性好，经济节能，水利用率超高，属于是高性价比产品。
璃清洗纯用纯水设备的工艺：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→**级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点 。

热心网友 时间：2023-10-14 06:04

在光伏、半导体行业电子管生产中,如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命。在面板上如果有其他的金属离子会造成发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在光伏行业晶体管、集成电路生产中，水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。纯水的制取使用CEDI全名为Continuous Electrodeionization
(电解式连续离子法),其主要用途是针对半导体、电厂、电子、制药或实验室等高科技产业提供高纯度的超纯水,该技术问世已超过15年,注册专利名为CDI,其研发成果居于市场领导者地位,且闻名于世。CDI电解式连续去离子膜块组的功能与传统的混床离子交换树脂相似,一般皆使用于RO(逆渗透)系统去除水中微量的离子,但CDI系统不需停机再生,因此也不需使用酸碱再生也没有废水排放的问题。

热心网友 时间：2023-10-14 06:04

工业生产中为什么要用纯水清洗材料？ 因为在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在显像管生产时，含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水。液晶显示器的屏面需用纯水清洗，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，从而影响液晶屏质量。

热心网友 时间：2023-10-14 06:05

　　edi水处理模块是超纯水装置中重要组成部分，制水纯度的高低直接受到离子水设备edi膜块运行状态的影响，所以必须对EDI膜块进行定期维护清洗，确保设备长期稳定运行。
　　超纯水edi清洗操作流程概述
　　独立循环清洗程序
　　1、排空清洗系统。
　　2、若是使用直通清洗方法，则不能在开始清洗之前或在清洗步骤之间排空 EDI系统(如果已工作超过一个步骤)。若是使用再循环清洗方法，则在开始清洗之前或在清洗过程中排空EDI系统(如果已工作超过一个步骤)。
　　3、通过关闭 EDI系统淡水进口，淡水出口，淡水冲洗出口，浓水排放，及极水出口阀将 EDI系统与上游及下游隔离开。
　　4、通过关闭浓水进口隔离阀来将浓水管线与淡水和极水管线隔离开。
　　edi超纯水处理设备清洗程序
　　清洗程序 1: 浓水管线清洗及消毒。
　　清洗程序 2: 淡水管线清洗及消毒。
　　清洗及消毒模式
　　1、首选清洗模式：直通，逆流(低及 高 pH值都可);再循环(氧化剂)。
　　2、可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可)。
　　注意: 由于硬度结垢几乎完全发生在浓水室和极水室，淡水室的低PH清洗并不常用。在极端严重结垢或十分混乱的条件下，需要保留淡水室的低PH清洗。
　　清洗程序 3: 极水管线清洗及消毒。
　　清洗及消毒模式
　　1、直通逆流(低及 高 pH值都可)再循环(氧化剂)。
　　2、可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可。

热心网友 时间：2023-10-14 06:05

因为一般的水中含有氯离子，偏酸性的；对镀膜工艺有影响的，所以要用纯净水清洗材料表面。