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PVD涂层是什么?

发布网友 发布时间:2022-04-23 06:35

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3个回答

热心网友 时间:2023-10-05 13:43

PVD涂层技术是一种绿色清洁的表面处理技术—在高真空中采用物理方法在目标工件表面上制备一层几百纳米到几十微米的涂层,可以提供特定表面强化需求。

技术核心思想:使用厚度仅仅数微米的二维材料对材料表面进行保护,实现工具的使用寿命和使用性能得到显著提升,获得低成本下高效率的效用,适用于小型精密工件的表面强化。

PVD涂层的应用:

PVD涂层能应用于各类需要机械接触的耐蚀耐磨零件上,比如在GCr15轴承环上镀CrN涂层,中性盐雾试验到300h,能够取代不环保的电镀硬铬工艺,同时表面硬度更高。

PVD硬质涂层还可以作为装饰性涂层,调整工艺能制备不同颜色,应用在各类卫浴和高端五金件上获得美观的外表,不仅具有良好的耐腐蚀性-中性盐雾试验超过300小时,还具有良好的耐磨性,不易磨损和刮花,能长时间保持表面高质量。

热心网友 时间:2023-10-05 13:43

PVD涂层是一种表面处理技术,通过以原子和分子水平形成涂层,实现高耐久性,低磨损。

与CVD工艺相比,PVD工艺处理温度低,在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响,薄膜内部应力状态为压应力,更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层,PVD工艺对环境无不利影响,符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

PVD被涂层工件材料要求

1、除特殊涂层外,涂层材料必须是导电的,可以涂层材料包括高合金工具钢、高速钢、不锈钢、硬质合金、钛合金等。

2、由于涂层生成温度在 380-500℃,因此涂层工件的材料要能够承受 500℃的温度而不发生性能变化(如挥发、变形、变软等),一般需要热处理 3 次高温回火处理,特殊低温(260-380℃)涂层工艺可降低涂层温度,具体可视工件的回火温度以及性能要求而定。

3、工件能够在涂层前进行退磁处理。

以上内容参考  百度百科-涂层

热心网友 时间:2023-10-05 13:44

PVD(Physical Vapor Deposition),指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效地控制,使材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。
过滤阴极弧:过滤阴极电弧(FCA )配有高效的电磁过滤系统,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%,并且可以过滤掉大颗粒, 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。
磁控溅射:在真空环境下,通过电压和磁场的共同作用,以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击,致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同,导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。
离子束DLC:碳氢气体在离子源中被离化成等离子体,在电磁场的共同作用下,离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整加在等离子体上的电压来控制。碳氢离子束被引到基片上,沉积速度与离子电流密度成正比。星弧涂层的离子束源采用高电压,因而离子能量更大,使得薄膜与基片结合力很好;离子电流更大,使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于可沉积超薄及多层结构,工艺控制精度可达几个埃,并可将工艺过程中的颗料污染所带来的缺陷降至最小。
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